產(chǎn)品分類(lèi)
Product CategoryCIF 推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備,合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),優(yōu)化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣。CIF等離子清洗機(jī)F系列性能穩(wěn)定,操作簡(jiǎn)單方便,易維護(hù)。
CIF勻膠機(jī)轉(zhuǎn)速穩(wěn)定、啟動(dòng)迅速,旋涂均勻,操作簡(jiǎn)單,結(jié)構(gòu)緊湊實(shí)用,為實(shí)驗(yàn)室提供了理想的解決方案。廣泛應(yīng)用于微電子、半導(dǎo)體、新能源、化工材料、生物材料、光學(xué),硅片、載玻片,晶片,基片,ITO 導(dǎo)電玻璃等工藝制版表面涂覆等。
CIF 透射電鏡(TEM)樣品桿清洗機(jī)采用遠(yuǎn)程離子清洗源 設(shè)計(jì),清洗快速高效, 低轟擊損傷, 同時(shí)可實(shí)現(xiàn)常規(guī)等離子清洗。透射電鏡樣品桿清洗機(jī)主要用于 TEM透射電鏡樣品桿的等離子體清洗和真空檢漏。
紫外臭氧清洗機(jī)(UVOzone Cleaner, UVO),是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì),快速高效的材料表面清洗設(shè)備,能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)表面上的有機(jī)污染物。
CIF 推出 RIE 反應(yīng)離子刻蝕機(jī),采用 RIE 反應(yīng)離子誘導(dǎo)激發(fā)方式,實(shí)現(xiàn)對(duì)材料表面各向異性的微結(jié)構(gòu)刻蝕。特別適合于大學(xué)、科研院所,微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行介質(zhì)刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價(jià)比高,易維護(hù),處理快速高效。RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形進(jìn)行 RIE 反應(yīng)離子刻蝕。
CIF推出全新一代 CPC-10系列實(shí)驗(yàn)室型等離子體清洗設(shè)備, 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計(jì)理念。具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積, 使用成本低, 性價(jià)比高, 處理快速高效, 特別適合于大學(xué), 科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。
CIF推出全新一代 CPC-G系列實(shí)驗(yàn)室型等離子體清洗設(shè)備, 改變傳統(tǒng)等離子體清洗設(shè)備設(shè)計(jì)理念。CIF實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)具有較大的腔體尺寸和有效樣 品處理面積, 使用成本低, 性價(jià)比高, 處理快速高效, 特別適合于大學(xué), 科研院所和光電企業(yè)實(shí)驗(yàn)室小批量中試生產(chǎn)。
CIF 推出的新一代科研型等離子清洗設(shè)備,合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),優(yōu)化的腔體尺寸,使得處理樣品更大,適用范圍更廣。 CIF實(shí)驗(yàn)室型等離子清洗機(jī)CPC-F系列性能穩(wěn)定,操作簡(jiǎn)單方便,易維護(hù)。
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